Dettaglio del documento Condividi Trova il documento in altre risorse ???scheda.servizi.button??? Facebook Investigation on SiGe Selective Epitaxy for Source and Drain Engineering in 22 nm CMOS Technology Node and Beyond : Doctoral Thesis accepted by Chinese Academy of Sciences, Beijing, China Wang, Guilei eBook Springer <editore> 2019 Scrivi una recensione e condividila con gli altri lettori. Lo trovi in Scheda Links VAN08@Biblioteca del Dipartimento di Matematica e Fisica Biblioteca BIBLIOTECA DEL DIPARTIMENTO DI MATEMATICA E FISICA BIBLIOTECA DEL DIPARTIMENTO DI MATEMATICA E FISICA Mappa Biblioteca Documento per sola consultazione interna Inventario eMF 4097 Collocazione DLOAD e-book 4097 Scaffale https://unina2.on-line.it/opac/resource/VAN00219614
